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  • MPCVD 微波等离子体化学气相沉积

    MPCVD 微波等离子体化学气相沉积

    MPCVD全称：Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition，微波等离子体化学气相沉积核心定位：无电极等离子体 CVD，当前制备高质量单晶金刚石、金刚石薄膜的主流技术✅ 基本原理真空腔体中通入工艺气体（生长金刚石一般是 CH₄甲烷 + H₂氢气）；微波源（常用 2.45 GHz）通过波导耦合进谐振腔，激发气体形成高密度等离子体；甲烷被解离为甲基自由基等活性碳基团，原子氢刻蚀石墨相、保留金刚石相；活···
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  • PECVD 等离子体增强化学气相沉积

    PECVD 等离子体增强化学气相沉积

    PECVDPlasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition，等离子体增强化学气相沉积，属于 CVD 薄膜沉积工艺，依靠等离子体激活反应气体，在低温下沉积固态薄膜，是半导体、MEMS、光伏领域*常用的介质膜制备工艺。✅ 基本原理真空腔体内通入前驱气体，常用13.56MHz 射频 RF 电源，在极板间产生辉光等离子体；高能电子撞击气体分子，解离生成自由基、活性离子；活性物种扩散到衬底表面发生化学反应成膜，副···
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  • PVD 物理气相沉积

    PVD 物理气相沉积

    磁控溅射镀膜
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  • CVD 化学气相沉积

    CVD 化学气相沉积

    CVD（Chemical Vapor Deposition，化学气相沉积）定义：把含目标元素的气态前驱体通入反应腔，在基底表面发生化学反应，生成固态薄膜；副产物以气体形式被抽走，属于化学成膜，和 PVD（物理气相沉积，溅射 / 蒸发）区分开抖音百科。核心一句话：PVD 是 “打原子上去”；CVD 是 “气体在表面反应长出膜”基本过程前驱体气体输送到基底附近吸附在基底表面表面发生分解 / 化合反应，生成固态薄膜气态副产物脱附，被真空泵排出···
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